三星开发新型LP Wide I/O内存 单通道宽度将达到512bit

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时间 2024年7月17日 预览 4

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2024-07-17 16:40:22·[??中关村在线 原创??]·作者:林有三

三星电子正在积极研发一种新型移动内存,名为LP Wide I/O。这种内存将于2025年一季度实现技术就绪,并在2025年下半年至2026年上半年实现量产就绪。与现有HBM内存相比,LP Wide I/O内存的单封装位宽将达到现有HBM内存的一半——即512bit。

为了实现更小芯片上512bit的位宽,需要堆叠DRAM芯片,但是HMB采用不适合移动内存各层DRAM间的互联的方式是TSV硅通孔。因此,三星电子将在LP Wide I/O内存上采用一项全新垂直互联技术,名为VCS(全称Vertical Cu Post Stack)。

同SK海力士的VFO技术和三星电子的VCS技术类似,它们都是将扇出封装和垂直通道结合在一起。据三星电子表示,VCS先进封装技术相较于传统引线键合拥有8倍和2.6倍的I/O密度和带宽;相较VWB垂直引线键合(疑似指代SK海力士的VFO技术),其生产效率提高了9倍。

此外,三星电子还计划于2025至2026年推出量产的LPDDR6内

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